X射線熒光光譜儀是一種常用的光譜技術，既可用于材料的組成成分分析，又可用于涂層和多層薄膜厚度的測量等。與所有的分析儀器一樣，在做出購買決定前應當考慮許多因素，例如應用領域等細節。
 

　　X射線的產生：
 

　　根據經典電磁理論，運動的帶電粒子的運動速度發生改變時會向外輻射電磁波。實驗室中常用的K射線源便是利用這一原理產生的：利用被高壓加速的電子轟擊金屬靶，電子被金屬靶所減速，便向外輻射X射線。這些X射線中既包含了連續譜線，也包括了特征譜線。
 

　　基本原理：
 

　　XRF工作原理是X射線光管發出的初級X射線激發樣品中的原子，產生特征X射線，通過分析樣品中不同元素產生的特征熒光X射線波長(或能量)和強度，可以獲得樣品中的元素組成與含量信息，達到定性定量分析的目的。
 

　　X射線是一種波長較短的電磁輻射，通常是指能量范圍在0.1~100 keV的光子。X射線與物質的相互作用主要有熒光、吸收和散射三種。
 

　　X射線熒光光譜儀能夠分析元素周期表中的大部分元素，具體而言，從鈉元素(原子序數Z=11)到鈾元素(原子序數Z=92)都可以利用這種技術進行檢測分析。但是對于原子序數較低的元素(鈦元素Ti，Z=22以下)，空氣會對檢測結果產生較大影響；由低原子序數元素產生的熒光值通常更低，并且樣品基體中的其它元素有可能會吸收低原子序數元素的能量輻射。
 

　　通常情況下，用于提高低原子序數元素的檢測靈敏度的方法主要為將儀器的樣品室抽成真空環境或者以氦氣(He)沖洗樣品室。